| 专利名称 | 多元合金薄膜的制备装置及其制备方法 | 申请号 | CN201711125054.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107761058A | 公开（授权）日 | 2018.03.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电研究院 | 发明（设计）人 | 吴晓斌;罗艳;王宇;王魁波;谢婉露;张罗莎;张立佳 | 主分类号 | C23C14/28(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/28(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I | 专利有效期 | 多元合金薄膜的制备装置及其制备方法 至多元合金薄膜的制备装置及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及多元合金薄膜的制备装置及其制备方法，制备装置包括连接有真空泵组的腔室、多个用于盛放高纯金属液的金属液容器、用于放置沉积基片的可转动基座、多个产生双脉冲激光的激光器组、基座控制器和数据采集控制单元，数据采集控制单元采集可转动基座的温度和位移信息，并控制脉冲加压设备的加压频率和多个激光器组的双脉冲激光的射出频率和能量，实现等离子体薄膜沉积的自动控制；基座控制器通过数据采集控制单元收集的基座的温度和位移信息。本发明的制备装置和方法，可以快速地制备高低熔点相差较大的多元合金薄膜、多元合金的气体化合物薄膜、化学成分梯度变化的薄膜和厚度方向合金比例任意变化的多元合金薄膜。 |
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