| 专利名称 | 应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台 | 申请号 | CN201710495565.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107102518A | 公开（授权）日 | 2017.08.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 王亮;张亮;秦金;谭浩森;许凯 | 主分类号 | G03F9/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F9/00(2006.01)I | 专利有效期 | 应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台 至应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台，包括上端台面、下端台面、基底，上端台面与下端台面之间通过双正交柔性铰链连接，掩膜通过真空吸附腔吸附在下端台面上，再放置在基底上。双正交柔性铰链包括两个正交的正圆柔性铰链。运行过程中，一定的法向压力从掩膜版、基底接触面上给出，经部件内的各个铰链分散传递，从而使得固定于下端台面的掩膜与下部的基底实现动态的、被动的紧密接触，有效地提高了光刻装置的对准效率，由于不存在过多的光电传感器，可在不损失对准精度的条件下最快速的实现被动校准。 |
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