| 专利名称 | 用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法 | 申请号 | CN201710175690.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107045266A | 公开（授权）日 | 2017.08.15 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 王闯;张浩然;刘前 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法 至用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法，包括步骤：S1：获取待激光直写区域的三维数据，根据获取的三维数据进行平面拟合；S2：将S1拟合的平面与理想平面比较，通过容错拟合算法进行计算，指导执行器调平；S3：根据调平结果再次进行平面拟合，如果没达到设计精度要求则重复迭代，直至达到精度要求；S4：使执行器执行到最后一次迭代过程计算出的目标位置，进行激光直写。本发明提出的用于大面积激光直写系统的调平方法，可使得系统在金属薄膜、无机相变材料、光刻胶或复合薄膜等多种材料上的调平精度均达到100nm以内，有效保证了激光直写系统刻写激光的精确聚焦，从而大幅度提高样品大面积刻写的刻写质量和成品率。 |
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