| 专利名称 | 一种基于粒子群优化算法的晶圆曝光路径规划方法 | 申请号 | CN201710229617.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106970506A | 公开（授权）日 | 2017.07.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 郑亚忠;戴凤钊;步扬;王向朝;孟泽江;彭常哲 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于粒子群优化算法的晶圆曝光路径规划方法 至一种基于粒子群优化算法的晶圆曝光路径规划方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于粒子群优化算法的晶圆曝光路径规划方法，通过将晶圆曝光场进行编号，以晶圆曝光场的曝光次序为粒子，以曝光路径总长度为目标函数，通过更新粒子的曝光次序来对曝光路径总长度进行优化。本发明能有效缩短晶圆曝光流程总时间，从而提高光刻机产率，具有原理简单、鲁棒性强、收敛速度快的优点。 |
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