专利名称 | 用于非球面光学元件抛光的数控双摆机构 | 申请号 | CN201710000704.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN106826543A | 公开(授权)日 | 2017.06.13 | 申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 焦翔;朱健强 | 主分类号 | B24B41/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B41/00(2006.01)I;B24B41/02(2006.01)I;B24B49/00(2012.01)I | 专利有效期 | 用于非球面光学元件抛光的数控双摆机构 至用于非球面光学元件抛光的数控双摆机构 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于非球面光学元件抛光的数控双摆机构,主要包括机架、Y轴电机、Y轴曲柄、Y轴连杆、X轴电机、X轴曲柄、X轴连杆、配重块、直线导轨滑台、十字万向节、抛光盘、控制器、Y轴电滑环和X轴电滑环,其中控制器可以控制Y轴曲柄、Y轴连杆、X轴曲柄和X轴连杆的长度以及Y轴电机、X轴电机的转动角度,从而控制抛光盘的运动模式和运动位置。本发明针对于各种非球面光学元件的自动化抛光,具有运动灵巧、加工精度高和能抑制中频误差等优点。 |
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