| 专利名称 | 一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置 | 申请号 | CN201611133633.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106756864A | 公开（授权）日 | 2017.05.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 靳京城;李春;邓文渊;金春水 | 主分类号 | C23C14/54(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/54(2006.01)I | 专利有效期 | 一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置 至一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明实施例公开了一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置，利用晶控法制备薄层灵敏度高的优点，控制制备非灵敏层前端部分，使剩余光控沉积厚度部分落在最佳灵敏位置监控，减少光控信号不灵敏带来的监控误差，利用光控法制备非灵敏层后端部分，使剩余光控沉积厚度部分落在最佳灵敏位置监控，可以同时补偿晶控部分及光控本身控制沉积所带来的制备误差，采用光控与晶控结合的方式沉积多层膜薄膜元件中非灵敏层薄膜层，避免了只采用光控法制备非敏感层所带来的控制误差，显著提高了光控系统中非灵敏层的沉积精度。 |
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