| 专利名称 | 电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法 | 申请号 | CN201710000701.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106756814A | 公开（授权）日 | 2017.05.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 齐红基;靳亚雪;王斌;袁佳丽 | 主分类号 | C23C14/30(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/30(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 专利有效期 | 电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法 至电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法，该装置包括角度准直装置、基片安装夹具、连接螺柱、连接筒、步进电机、步进电机驱动器和计算机，特点在于由基片安装夹具、角度准直装置及其连接螺柱构成倾斜沉积镀膜装置，具有多个不同角度倾斜的电子束蒸发沉积通道，本发明一次镀膜可以实现多片倾斜角度一致或者不一致的“雕塑”薄膜，具有结构简单，性能稳定，可操作性强等特点。 |
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