化合物氟硼酸铵和氟硼酸铵非线性光学晶体及制备方法和用途

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专利名称 化合物氟硼酸铵和氟硼酸铵非线性光学晶体及制备方法和用途 申请号 CN201611128283.3 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN106745022A 公开(授权)日 2017.05.31 申请(专利权)人 中国科学院新疆理化技术研究所 发明(设计)人 潘世烈;史国强;张方方;侯雪玲 主分类号 C01B35/06(2006.01)I IPC主分类号 C01B35/06(2006.01)I;C30B7/10(2006.01)I;C30B7/14(2006.01)I;C30B9/12(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I;C30B29/12(2006.01)I;G02F1/35(2006.01)I;G02F1/355(2006.01)I;G02F1/37(2006.01)I;G02F1/39(2006.01)I 专利有效期 化合物氟硼酸铵和氟硼酸铵非线性光学晶体及制备方法和用途 至化合物氟硼酸铵和氟硼酸铵非线性光学晶体及制备方法和用途 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种化合物氟硼酸铵及氟硼酸铵非线性光学晶体及制备方法和用途,该化合物的化学式为NH4B4O6F,分子量为176.28,采用固相反应法制备;该晶体的化学式为NH4B4O6F,分子量为176.28,晶体属正交晶系,空间群Pna21,晶胞参数为a=7.615(3)?,b=11.207(4)?,c=6.604(3)?,Z=4,V=563.6?3。通过该方法获得尺寸为厘米级的NH4B4O6F非线性光学晶体,在制备Nd:YAG激光器所输出的1064?nm的基频光进行2倍频或3倍频或4倍频或5倍频或6倍频的谐波光输出或产生低于200nm的深紫外倍频光输出的用途或制备倍频发生器、上或下频率转换器或光参量振荡器中的用途。该NH4B4O6F非线性光学晶体具有较宽的透光波段,物化性能稳定,机械硬度大,不易碎裂和潮解,易于切割、抛光加工和保存等优点。

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