| 专利名称 | 一种光催化原位表征系统 | 申请号 | CN201610887264.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106645550A | 公开（授权）日 | 2017.05.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 赵进才;籍宏伟;马万红;陈春城;车延科;宋文静 | 主分类号 | G01N31/10(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N31/10(2006.01)I | 专利有效期 | 一种光催化原位表征系统 至一种光催化原位表征系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光催化原位表征系统，用于光催化剂表面反应过程及有机物环境光化学过程研究，包括超高真空腔体、原位质谱模块、原位反射红外光谱模块、能谱模块、样品表面刻蚀及清洗部件、样品操纵台、在线更换样品部件、真空泵组、原位光照组件和气体进样部件。利用本发明，可以对固相样品表面进行原位刻蚀及清洗，并可以系统研究(光)催化反应过程中固相催化剂表面及气固、液固界面上的反应细节，如反应物吸附模式、分子特征基团变化、表面元素种类定性测试、催化反应或程序升温过程中间产物原位定性定量检测等。 |
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