| 专利名称 | 一种MAX相陶瓷涂层及其制备方法和制备装置 | 申请号 | CN201610882869.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106567049A | 公开（授权）日 | 2017.04.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 黄峰;舒瑞;黄庆;李朋;孟凡平;葛芳芳;朱萍 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种MAX相陶瓷涂层及其制备方法和制备装置 至一种MAX相陶瓷涂层及其制备方法和制备装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种MAX相陶瓷涂层，此涂层组成为V2AlxC2?x，x＝0.7～1.5，涂层为柱状晶生长结构，每一个柱状晶由一层Al原子层和两层V原子层交替排列形成，且C原子层位于两层V原子层之间，涂层密度为4.5～5.2g/cm3。本发明还公开了所述MAX相陶瓷涂层的制备方法，采用双靶磁控溅射法并辅助射频叠加中频的电源施加方式，在制备温度为550～650℃的情况下，在非晶基体上非外延生长出所述MAX相陶瓷涂层。该制备条件下获得的V2AlxC2?x涂层纯度达到了99.9％，涂层硬度在13～16GPa。此方法一步合成，成本较低，可控制性强，有利于MAX相涂层低温制备和多领域应用。 |
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