| 专利名称 | 一种自适应抛光磨头及用于光学元件检测的支撑工装 | 申请号 | CN201610957157.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106553120A | 公开（授权）日 | 2017.04.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 彭海峰;王绍治;刘健;杨怀江;隋永新 | 主分类号 | B24B41/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B41/00(2006.01)I;G01M11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种自适应抛光磨头及用于光学元件检测的支撑工装 至一种自适应抛光磨头及用于光学元件检测的支撑工装 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种自适应抛光磨头，包括：盖板，设置在所述抛光磨头的底端；导轨设置在所述抛光磨头的内部；心轴，设置在所述抛光磨头的内部并通过心轴伸出孔伸出盖板；位移传感器，设置在所述抛光磨头的内部并固定在所述位移传感器固定块上；磨头帽，设置在所述抛光磨头的顶端；及，磨头法兰，所述磨头法兰设置在所述抛光磨头的内部。本发明还提供了一种用于光学元件检测的支撑工装。本发明提供的自适应抛光磨可以：使得光学元件的抛光头在受力超过额定限度情况下发生自适应的变形，从而降低了抛光过程中抛光磨头的振动，使抛光压力对光学元件面型误差的负面影响降低；有效提高光学元件加工精度。 |
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