| 专利名称 | 一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法 | 申请号 | CN201610529324.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106433478A | 公开（授权）日 | 2017.02.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 钟显云;万勇建;杨金山;李良红;张凌 | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I | IPC主分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01F1/44(2006.01)I | 专利有效期 | 一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法 至一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法，磁流体抛光液主要由羰基铁粉、双相基载液、添加剂、PH调节剂及磨料组成。组合的质量分数分别为84％?87％，9％?12％，1％?3％，0.2％?0.8％，0.5％?1％；其制备方法步骤为：(1)将二氧化硅包袱的羰基铁粉经过研磨工艺处理，获得稳定、分散均匀、粒径≤3微米的羰基铁粉；(3)采用离子水、乙二醇及二甲基甲酰胺混合获取亲水性的双相基载液；(4)将添加剂、PH调节剂、磨料加入到基载液中，获取稳定悬浮液；(5)将悬浮液与处理过的羰基铁粉搅拌获得本发明的磁流体抛光液。本发明的磁流体抛光液性能稳定、分布均匀、流动性能好、可满足CaF2晶体材料曲面的超光滑加工。 |
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