| 专利名称 | 一种真空密封性能测量装置及方法 | 申请号 | CN201610532002.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106226000A | 公开（授权）日 | 2016.12.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电研究院 | 发明（设计）人 | 吴晓斌;张罗莎;王魁波;陈进新;罗艳;谢婉露;周翊;王宇;崔惠绒 | 主分类号 | G01M3/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M3/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种真空密封性能测量装置及方法 至一种真空密封性能测量装置及方法 | 法律状态 | 著录事项变更 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种真空密封性能测量装置及方法，该装置包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)。该方法采用动态法测量或者静态累积法测量密封容器(5)的整体漏率，表征密封容器的密封性能，其中动态法适用于相对较大的漏率测量，其测量范围与四极质谱计(12)的最小可检信号、小孔流导相关，静态累积法适用于相对较小的氦气漏率测量，利用四极质谱计对测量室内累积的氦分压的测量进一步计算出密封容器(5)的氦漏率。 |
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