| 专利名称 | 同位素制备真空系统及其阀门安装结构 | 申请号 | CN201710682453.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107575640A | 公开（授权）日 | 2018.01.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 发明（设计）人 | 李铁军 | 主分类号 | F16K51/02(2006.01)I | IPC主分类号 | F16K51/02(2006.01)I | 专利有效期 | 同位素制备真空系统及其阀门安装结构 至同位素制备真空系统及其阀门安装结构 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本公开涉及一种同位素制备真空系统及其阀门安装结构，其中，所述阀门安装结构包括网格架(1)和至少一个阀门(2)，所述网格架(1)包括X轴梁(11)、Y轴梁(12)和Z轴梁(13)，所述至少一个阀门(2)通过滑块(3)滑动安装在所述X轴梁(11)或Y轴梁(12)或Z轴梁(13)上，以能够调整所述阀门(2)的空间位置。该阀门安装结构使阀门能够布置在空间上的任意位置，而不限于平面上的某个位置，并且阀门的位置能够根据需要进行调节。 |
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