| 专利名称 | 一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法 | 申请号 | CN201510555817.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106483591A | 公开（授权）日 | 2017.03.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 贺军辉;张晓婕 | 主分类号 | G02B1/118(2015.01)I | IPC主分类号 | G02B1/118(2015.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法 至一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法。所述表面结构包括含有聚合物成分的基底，或者其上涂覆至少一层含有聚合物成分的涂层的基底，以及位于外表面的具有减反增透性能的单层纳米粒子；所述纳米粒子的一部分嵌入含有聚合物成分的基底，或者嵌入基底最外层的含有聚合物成分的涂层中，另一部分裸露在外；所述纳米粒子的粒径为2nm-1μm；所述纳米粒子的嵌入体积至少为其自身体积的2％。本发明首次提出原位纳米压制技术，并且首次将原位纳米压制技术用于制备减反增透表面结构，无需专门的模板，制备方法简单，大大节约了操作成本，并且所获得的表面结构机械性能优越，能够耐受擦洗，且具有良好的减反增透效果。 |
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