一种低温快速生长各种类型图形化三维石墨烯的方法

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专利名称 一种低温快速生长各种类型图形化三维石墨烯的方法 申请号 CN201610695374.9 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN106315570A 公开(授权)日 2017.01.11 申请(专利权)人 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 发明(设计)人 于乐泳;冯双龙;胡云;孙泰;杨俊;魏大鹏;史浩飞;杜春雷 主分类号 C01B32/186(2017.01)I IPC主分类号 C01B32/186(2017.01)I 专利有效期 一种低温快速生长各种类型图形化三维石墨烯的方法 至一种低温快速生长各种类型图形化三维石墨烯的方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供了一种低温快速生长各种类型图形化三维石墨烯的方法,属于电子生产技术和柔性器件制备领域,该方法步骤包括:(1)制作掩模板图形;(2)固定掩模板和生长基底:(3)低温生长三维石墨烯;通过该方法可制备任意形状的三维石墨烯。该方法步骤简单、高效、成本低、环保,且无需进行加热处理,适用于图形化三维石墨烯的产业化生产,同时也可应用于其他二维三维材料的图形化处理。

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