| 专利名称 | 一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法 | 申请号 | CN201510963031.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106238427A | 公开（授权）日 | 2016.12.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 邓文渊;金春水;姚舜;喻波;靳京城 | 主分类号 | B08B11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B11/00(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法 至一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及极紫外光刻技术领域，具体公开一种极紫外光学元件表面清洗装置及清洗方法。本发明的极紫外光学元件表面清洗装置包括清洗腔体；设置于清洗腔体外两侧的进气口和出气口；设置于清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置、CO2浓度监控装置、O3浓度监控装置；还包括工作气体控制装置、控制电路以及控制终端。本发明清洗装置和清洗方法，能有效实现极紫外光学元件表面污染的彻底清洗，同时防止极紫外光学元件表面发生氧化，提高极紫外光学元件潜在的长期使用寿命；能够保证排出气体的安全性，降低清洗过程对实验室环境和实验人员安全健康的影响。 |
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