| 专利名称 | 一种可用于连续晶体自动刻度的实验平台 | 申请号 | CN201721851982.0 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207977115U | 公开（授权）日 | 2018.10.16 | 申请（专利权）人 | 深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 任宁;杨永峰;章先鸣;王晓辉;邝忠华;胡战利;桑子儒;付鑫;吴三;梁栋;刘新;郑海荣 | 主分类号 | G12B5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G12B5/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种可用于连续晶体自动刻度的实验平台 至一种可用于连续晶体自动刻度的实验平台 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及核技术成像的技术领域，公开了一种可用于连续晶体自动刻度的实验平台，包括上位机、下位机、步进电机、放射源固定部及丝杠导轨；所述上位机通过串口向所述下位机发送控制命令，所述下位机与所述步进电机电性连接，所述下位机控制所述步进电机移动；所述步进电机包括水平方向步进电机及竖直方向步进电机，所述丝杠导轨数量为两个，所述水平方向步进电机与所述竖直方向步进电机分别安装于两个所述丝杠导轨上；所述步进电机控制所述放射源固定部移动。实施本实用新型的有益效果主要是：在进行晶体刻度时，不需要每个点的测试都进行人工移动，确定晶体边缘后，即可使用本实用新型所述实验平台进行连续晶体自动刻度。 |
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