| 专利名称 | 真空环境下光学元件损伤阈值的测量装置和测量方法 | 申请号 | CN201710011135.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106840610A | 公开（授权）日 | 2017.06.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 晋云霞;孔钒宇;李大伟;赵元安;邵建达;张益彬;黄昊鹏;王勇禄;陈鹏;陈俊明;徐姣 | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 真空环境下光学元件损伤阈值的测量装置和测量方法 至真空环境下光学元件损伤阈值的测量装置和测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种真空环境下光学元件损伤阈值的测量装置和测量方法。采用等效光路法实现在真空环境中对光斑面积的准确测量和对测量过程中的光斑质量进行实时监测，确保对光学元件损伤阈值的准确测量。该装置可以在一次真空环境中实现对4片透、反射元件和衍射元件样品采用1?on?1、S?on?1、R?on?1和光栅扫描的方式进行损伤阈值测量，并能够对测试环境中的残余气体进行分析。且该设备能对测量过程进行自动控制并实现数据的自主采集，极大地提高了真空环境下光学元件的损伤测试效率。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障