| 专利名称 | 一种用于红外光谱衬底的制备方法 | 申请号 | CN201610608505.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106198435A | 公开（授权）日 | 2016.12.07 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 胡海;胡德波;刘瑞娜;白冰;杨晓霞;戴庆 | 主分类号 | G01N21/35(2014.01)I | IPC主分类号 | G01N21/35(2014.01)I | 专利有效期 | 一种用于红外光谱衬底的制备方法 至一种用于红外光谱衬底的制备方法 | 法律状态 | 著录事项变更 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种红外光谱衬底的制备方法，包括如下步骤：1)选取支撑基底；2)利用机械加工、干法或者湿法刻蚀的方法，在支撑基底上制备通孔结构；3)转移衬底材料和其保护层至通孔表面：利用标准的湿法转移工艺，将衬底材料和其保护层转移至样品表面，将样品晾干并且加热使得转移的薄膜与基底贴合紧密；4)对通孔的背面进行密封：利用另一块基底材料贴合至背面通孔处，使用玻璃胶将背面的通孔密封；5)去除样品表面的保护层：将样品放置于丙酮或者去保护层溶剂里，去除表面的保护层；6)拆除样品背面的密封结构：将样品清洗干净并且晾干以后拆除背面的密封基底。 |
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