L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法

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专利名称 L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法 申请号 CN201610496714.5 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN106129244A 公开(授权)日 2016.11.16 申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 鲁军;赵旭鹏;毛思玮;朱礼军;赵建华 主分类号 H01L43/08(2006.01)I IPC主分类号 H01L43/08(2006.01)I;H01L43/10(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I 专利有效期 L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法 至L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器,包括:一基片,为后续生长的多层膜提供外延基础;一平滑层,其制作在基片上,提供良好的界面平整度和晶格匹配;一参考磁性层,其制作在平滑层上,拥有高晶体质量;一中间层,其制作在参考磁性层上;一探测磁性层,其制作在中间层上,外延生长;一覆盖层,其制作在探测磁性层上,起到保护薄膜的作用。本发明提供一种工艺简单、低成本、宽线性响应范围和高灵敏度的磁敏传感器。

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