| 专利名称 | 一种掺硼金刚石电极 | 申请号 | CN201721801225.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207774876U | 公开（授权）日 | 2018.08.28 | 申请（专利权）人 | 深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 唐永炳;谷继腾;杨扬;石磊 | 主分类号 | C02F1/461(2006.01)I | IPC主分类号 | C02F1/461(2006.01)I;C02F1/30(2006.01)I;B01J23/30(2006.01)I;B01J23/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种掺硼金刚石电极 至一种掺硼金刚石电极 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供了一种掺硼金刚石电极，包括基体，依次层叠设置于所述基体上的掺硼金刚石层和二氧化钛层，所述二氧化钛层具有多孔结构，所述多孔结构的孔洞贯穿所述二氧化钛层，以使部分所述掺硼金刚石层暴露。本实用新型提供的掺硼金刚石电极，通过在掺硼金刚石层表面设置具有贯穿孔洞的多孔结构的二氧化钛层，提高了二氧化钛层的比表面积，进一步提高了光催化性能，而部分掺硼金刚石层的暴露使得电催化性能增强。 |
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