| 专利名称 | 一种用于点源透过率测试的改进型腔体 | 申请号 | CN201820061726.X | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207742114U | 公开（授权）日 | 2018.08.17 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 李朝辉;李晓辉;赵建科;徐亮;刘峰;张玺斌;于敏 | 主分类号 | G01N21/59(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/59(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于点源透过率测试的改进型腔体 至一种用于点源透过率测试的改进型腔体 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型属于光学系统杂散光测试领域，涉及一种用于点源透过率测试的改进型腔体。包括密封腔体及设置在密封腔体外部的光陷阱；密封腔体的侧壁由横截面为优弧的两个曲面对接而成；两个曲面的对接处设入光口；密封腔体的顶部与底部通过平板密封；光陷阱位于与入光口相对的两个曲面的对接处；光陷阱的横截面为等腰梯形。排除了PST测试结果中的“尖峰”噪点。 |
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