| 专利名称 | 线性蒸发源及连续式蒸镀设备 | 申请号 | CN201721742630.1 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207727135U | 公开（授权）日 | 2018.08.14 | 申请（专利权）人 | 深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 杨世航;刘壮;张撷秋;崔骏;李霖 | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 专利有效期 | 线性蒸发源及连续式蒸镀设备 至线性蒸发源及连续式蒸镀设备 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种线性蒸发源，包括：坩埚，用于对材料进行第一次蒸发；第一加热器，用于加热坩埚；喷射管，喷射管与坩埚连通，用于对材料进行第二次蒸发，喷射管包括管本体以及若干个喷嘴，若干个喷嘴沿管本体的长度方向排列于管本体上；第二加热器，用于对喷射管进行加热。本实用新型还公开一种连续式蒸镀设备，包括若干个相互连通的真空镀膜腔、传送机构和线性蒸发源，传送机构用于传输待蒸镀样品，线性蒸发源设置于真空镀膜腔内，喷嘴朝向待蒸镀样品。在线性蒸发源中通过两个加热器控制蒸发量和蒸发速率，设置若干个喷嘴实现大面积喷涂。在连续式蒸镀设备中设置传送机构使得多个待蒸镀样品在各个真空蒸镀腔内连续移动，实现连续蒸镀。 |
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