| 专利名称 | 用于临近催化化学气相沉积的装置 | 申请号 | CN201721700524.7 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207727143U | 公开（授权）日 | 2018.08.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;郭光灿 | 主分类号 | C23C16/26(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/26(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I | 专利有效期 | 用于临近催化化学气相沉积的装置 至用于临近催化化学气相沉积的装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本申请提供用于临近催化化学气相沉积的装置及方法，所述装置包括：在竖直方向上设置的上加热器和下加热器；用于控制它们升降的电机；在下加热器表面上的用于安放基底的样品台；在样品台和上加热器之间的水平导轨；和用于安放催化剂的载板，所述载板和所述样品台之间为用于临近催化化学气相沉积的反应区；其中上下加热器用于对反应区提供二维材料生长所需的温度。通过利用本实用新型的装置和方法，可以使得在催化剂表面催化得到的二维材料的活性物质扩散到基底，使得在基底上沉积所需的薄膜；同时可以在不具有催化功能的基底上生长强烈依赖催化剂的二维材料的薄膜或异质结。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障