| 专利名称 | 一种大视场超分辨成像器件 | 申请号 | CN201610556716.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106199997A | 公开（授权）日 | 2016.12.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;蒲明博;赵泽宇;王彦钦;李雄;马晓亮;王长涛 | 主分类号 | G02B27/58(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/58(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大视场超分辨成像器件 至一种大视场超分辨成像器件 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种大视场超分辨成像器件，包括自下而上依次排布的基底、超表面。其中，所述的超表面是由超薄金属或介质膜上连续排列的纳米单元结构阵列组成，所述纳米单元结构为深亚波长结构。本发明利用纳米结构上的几何相位来控制电磁波的对称性，将电磁波由旋转对称转换为平移对称，得到接近180°的大视场完美聚焦，若采用曲面或多平面组合，可实现360°大视场成像。本发明工作带宽可覆盖整个电磁频谱，分辨率接近甚至突破衍射极限，在大视场超分辨成像领域具有广泛的应用前景。 |
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