| 专利名称 | 光学材料损耗的测量装置和测量方法 | 申请号 | CN201610529562.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105973849A | 公开（授权）日 | 2016.09.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 贺洪波;曹珍;胡国行;赵元安;王岳亮;彭小聪 | 主分类号 | G01N21/59(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/59(2006.01)I | 专利有效期 | 光学材料损耗的测量装置和测量方法 至光学材料损耗的测量装置和测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光学材料损耗的测量装置和测量方法，本发明通过测量仅厚度不同的样品组在同一入射角下的透过率差异来去除表面损耗的影响，从而获得样品的材料损耗。测量时通过消除光束偏移和表面缺陷影响提高测量精度。通过增加样品的组数，提高整体损耗量，同时利用锁相放大技术抑制噪声，提高信噪比，从而进一步提高材料损耗的测量精度。本发明装置和方法具有结构简易、调整方便和精度较高的特点。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
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4、专员跟进，交易保障