| 专利名称 | 光刻机照明均匀性校正装置和校正方法 | 申请号 | CN201710000725.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107065443A | 公开（授权）日 | 2017.08.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 程伟林;张方;杨宝喜;黄惠杰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机照明均匀性校正装置和校正方法 至光刻机照明均匀性校正装置和校正方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机照明均匀性校正装置和校正方法，校正装置包括基座、上校正模块和下校正模块。上校正模块与下校正模块放置于照明光场的扫描方向的两侧，且相对于照明光场非扫描方向对称分布。其中上校正模块与下校正模块中均有一块柔性薄板，通过控制该柔性薄板横截面上不同点的位移来得到相应的挠曲变形，并沿照明光场扫描方向运动进入照明光场以遮挡部分照明光，从而达到校正照明均匀性的目的。因柔性薄板发生挠曲变形后的轮廓为连续曲线，所以本发明的装置具有更高的校正能力和校正分辨率。 |
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