| 专利名称 | 一种成像光谱仪的杂光抑制方法 | 申请号 | CN201611061344.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106644066A | 公开（授权）日 | 2017.05.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 袁立银;王跃明;何志平;王建宇 | 主分类号 | G01J3/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J3/02(2006.01)I;G01J3/28(2006.01)I | 专利有效期 | 一种成像光谱仪的杂光抑制方法 至一种成像光谱仪的杂光抑制方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种成像光谱仪的杂光抑制方法。该方法针对基于集成滤光片分光且采用分色片进行谱段分离的成像光谱仪。分色片在系统视场光阑附近，分A、B区镀分色膜，入射光谱覆盖λa1～λb4。λab是双通道分界波长；λac、λbc分别是反射表面和透射表面薄膜分界线对应的波长。A区域λa1～λa3反射，λb1～λb3透射，反射光谱下降沿在λac之后，透射光谱上升沿在λab之前；B区域λa2～λa4反射，λb2～λb4透射，反射光谱下降沿在λab之后，透射光谱上升沿在λbc之前。经集成滤光片后，反射通道为λa1～λab，透射通道为λab～λb4。本发明对于集成滤光片分光的成像光谱仪，解决了普通分色片过渡区有带内杂光且光学效率低的问题，也降低了分光薄膜的研制难度。 |
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