| 专利名称 | 一种浮动研磨头和抛光头机构 | 申请号 | CN201610856671.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106239359A | 公开（授权）日 | 2016.12.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 焦翔;朱健强 | 主分类号 | B24B41/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B41/00(2006.01)I;B24B37/11(2012.01)I;B24B29/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种浮动研磨头和抛光头机构 至一种浮动研磨头和抛光头机构 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种浮动研磨头和抛光头机构，主要包括研磨盘或抛光盘、固定头、锁紧板、下转板、下侧板、传动转子、上侧板轴承滚轮组、下侧板轴承滚轮组、上侧板、上转板、滑动轴套、转动轴、弹簧、弹簧限位板和传动销等组成，其中传动转子上设有两组圆弧导轨，两组圆弧导轨圆柱面的轴线垂直相交，调节研磨盘或抛光盘的高度使研磨面或抛光面过轴线交点，研磨或抛光时可消除倾覆力矩，极大地提高研磨或抛光压力的均匀性，并使得在浮动加工中使用更小的研磨头或抛光头成为现实，本发明适用于高精度抛光或研磨。 |
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