| 专利名称 | 一种小面积图形刻蚀深度的测量方法 | 申请号 | CN201410805198.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105789078A | 公开（授权）日 | 2016.07.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 苏瑞巩;缪小虎;李晓伟;时文华;熊敏;张宝顺 | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/66(2006.01)I | 专利有效期 | 一种小面积图形刻蚀深度的测量方法 至一种小面积图形刻蚀深度的测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种小面积图形刻蚀深度的测量方法，包括：提供一参考样品，设置多个面积不同的刻蚀参考区并进行刻蚀，测量刻蚀参考区的刻蚀面积与刻蚀速度，建立刻蚀面积与刻蚀速度的模型；提供一刻蚀衬底，设置第一刻蚀图形和第二刻蚀图形；其中，第一刻蚀图形的面积大于第二刻蚀图形的面积；以相同的刻蚀工艺分别在第一刻蚀图形和第二刻蚀图形内刻蚀所述衬底；测量第一刻蚀图形的刻蚀深度并计算第一刻蚀图形的刻蚀速度；根据第一刻蚀图形的刻蚀速度及其面积前述的模型进行校正；根据校正后的刻蚀面积与刻蚀速度的模型计算第二刻蚀图形的刻蚀速度，并进一步计算得到第二刻蚀图形刻蚀深度。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障