一种ITO薄膜的制备方法

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专利名称 一种ITO薄膜的制备方法 申请号 CN201410768358.9 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN105776882A 公开(授权)日 2016.07.20 申请(专利权)人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明(设计)人 周腾;陈征;崔铮 主分类号 C03C17/23(2006.01)I IPC主分类号 C03C17/23(2006.01)I 专利有效期 一种ITO薄膜的制备方法 至一种ITO薄膜的制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种ITO薄膜的制备方法,其包括:将ITO纳米晶直接分散在极性有机溶剂中形成ITO纳米晶分散液,再将所述ITO纳米晶分散液于基底表面成膜,之后烘干,并以水清洗,而后再次烘干,最后在150℃~300℃下退火1h以上,形成所述ITO薄膜。本发明采用特殊的ITO纳米晶制取工艺,并通过在旋涂成膜过程中加入了水洗这一步骤,有效地提高了ITO薄膜的电导,特别是在低温处理下获得了具有高电导率的ITO薄膜。本发明制备ITO薄膜的方法无需真空、高温等苛刻条件,简单易行,适用于低温下的应用。

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