| 专利名称 | 一种纳米压印设备 | 申请号 | CN201610105094.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105739247A | 公开（授权）日 | 2016.07.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 王亮;谈浩森;汪仲儒;许凯;张博健;李晨晖 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种纳米压印设备 至一种纳米压印设备 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种纳米压印设备，包括纳米压印头，纳米压印头上设置有纳米压印模板，纳米压印模板的下方设置有透明的压印衬底，压印衬底的下方设置有曝光光源，曝光光源为UV?LED光源。UV?LED光源安全无污染，且不会产生有害气体，所以可以将光源设置在纳米压印头的外部，且位于压印衬底的下方。压印模板不需要使用透明材质制造，降低了压印模板的制造要求。使用UV?LED光源还可以提高纳米压印设备的使用寿命，因为UV?LED的使用寿命长，不受开闭次数的影响，可以降低生产成本，并有效降低人工维护次数。另外，UV?LED为冷光源，不会产生热辐射，可以适用于热敏材料的粘接，在使用中无需等待预热，且照射强度更强。 |
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