高衬度低剂量相位衬度CT成像装置

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专利名称 高衬度低剂量相位衬度CT成像装置 申请号 CN201721367057.0 专利类型 实用新型 公开(公告)号 CN207457480U 公开(授权)日 2018.06.05 申请(专利权)人 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所;中国科学技术大学 发明(设计)人 雷恒波;孙明山;杨晓冬;曾维俊;孙海旋;王钟周;王骏;陆亚林;田扬超 主分类号 G01R33/48(2006.01)I IPC主分类号 G01R33/48(2006.01)I 专利有效期 高衬度低剂量相位衬度CT成像装置 至高衬度低剂量相位衬度CT成像装置 法律状态 说明书摘要 本实用新型公开了一种高衬度低剂量相位衬度CT成像装置,包括:基座、旋转台、成像平台及沿轴向嵌入设置在所述旋转台内部圆心处的样品台;所述成像平台上沿光路方向依次设置有X射线光源、源光栅、分束光栅、供所述样品台的上部伸缩穿出的开孔、分析光栅和探测器;所述的源光栅、分束光栅和分析光栅均为弧形状,其圆心均位于所述X射线光源处。本实用新型的高衬度低剂量相位衬度CT成像装置能够利用高能量的X光源实现较大的穿透深度,从而应用于厚样品(几十厘米)乃至人体的高衬度、低剂量成像。并且本实用新型的成像装置既能实现样品台旋转,又能实现成像系统旋转,稳定可靠、能够提供该成像技术所需要的精度要求。

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