| 专利名称 | 一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅 | 申请号 | CN201720561886.6 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207424284U | 公开（授权）日 | 2018.05.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 陈火耀;刘颖;梁举曦;王宇;刘正坤;邱克强;徐向东;洪义麟;付绍军 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G02B1/118(2015.01)I | 专利有效期 | 一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅 至一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅，是在熔石英基底同一表面制作光束采样光栅和亚波长光栅减反结构，在实现光束采样功能的基础上增加透过率。采样光栅和亚波长光栅的条纹方向可以平行、垂直或成角度。亚波长光栅的线密度在4500线/mm以上，刻蚀深度70～80nm，占宽比0.3～0.5。本实用新型对于351nm的TE偏振入射光，其透过率>95％。 |
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