| 专利名称 | 化学气相沉积设备 | 申请号 | CN201721380853.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207418858U | 公开（授权）日 | 2018.05.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;肖明;郭光灿 | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I | 专利有效期 | 化学气相沉积设备 至化学气相沉积设备 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供一种化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包括：反应腔体；真空提供装置，所述真空提供装置提供所述反应腔体内的真空；源供给装置，所述源供给装置将反应气体供给到所述反应腔体中；管状加热器，所述管状加热器处于所述反应腔体内，具有开放的两端和用于容纳生长基底的管腔；催化剂传送装置，所述催化剂传送装置处于所述反应腔体中，用于将催化剂传送经过管腔。 |
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