| 专利名称 | 一种磁流变抛光加工系统 | 申请号 | CN201721458471.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207387245U | 公开（授权）日 | 2018.05.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 张学军;薛栋林;李龙响;宋驰;张鑫 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I;B24B57/02(2006.01)I;B24B41/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种磁流变抛光加工系统 至一种磁流变抛光加工系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供的磁流变抛光加工系统，包括机械臂，磁流变抛光轮与机械臂相连，磁流变循环系统与循环系统支撑机构相连，工件(如光学元件)固定在工作台上，磁流变循环系统通过循环供给回路与磁流变抛光轮连接，磁流变抛光轮在运动程序控制下由机械臂带动，利用磁流变工作原理，对工作台上的工件进行加工，同时，在循环系统支撑机构的支撑下，磁流变循环系统实现对磁流变抛光轮的液体供给与循环支持，保证磁流变系统正常工作，通过利用机械臂的空间六自由度、速度、和加速度优势，结合磁流变抛光模块本身的运动特性要求，使得加工过程更佳高效和高速，也进一步提升了打磨抛光的整体效率。 |
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