| 专利名称 | 一种磁流变抛光加工系统 | 申请号 | CN201721458443.0 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207387244U | 公开（授权）日 | 2018.05.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 张学军;薛栋林;宋驰;张鑫;李龙响 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I;B24B57/02(2006.01)I;B24B41/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种磁流变抛光加工系统 至一种磁流变抛光加工系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供的磁流变抛光加工系统，包括机械臂、安装在所述机械臂一端的工件固定装置、具有磁流变抛光轮和磁流变循环系统的工作台，所述磁流变循环系统向所述磁流变抛光轮提供磁流变液，所述工作台安装在所述底座上，所述磁流变抛光轮伸出所述工作台，所述工件固定装置在所述机械臂的带动下实现与所述磁流变抛光轮之间的位置变化，通过利用机械臂的空间多自由度、速度和加速度优势，结合磁流变抛光轮设置在工作台可以减少机械臂的承重，使得机械臂在进行加工时候运转更灵活，而且也可以使用直径更大重量更大的磁流变抛光轮进行加工，使得加工高效和快速，也进一步提升了打磨抛光的整体效率。 |
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