| 专利名称 | 双入射狭缝高分辨率成像光谱系统 | 申请号 | CN201720842963.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN207280591U | 公开（授权）日 | 2018.04.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 朱雨霁;尹达一;魏传新 | 主分类号 | G01J3/28(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J3/28(2006.01)I;G01J3/02(2006.01)I;G01J3/04(2006.01)I | 专利有效期 | 双入射狭缝高分辨率成像光谱系统 至双入射狭缝高分辨率成像光谱系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本专利公开了一种双入射狭缝高分辨率成像光谱系统，它由双入射缝、分光子系统以及探测子系统构成，其中分光子系统包含主反射镜、凸面光栅、次反射镜以及校正透镜，探测子系统包含滤光片以及面阵探测器。系统具有高分辨率、快速重访时间、较低成本以及空间系统高集成化。双缝结构使系统实现一次观测同时获得两个目标区域的光谱信息，缩短重访时间；通过主反射镜、凸面光栅、次反射镜同心的设计方法，可以减小系统像差，提高系统分辨率。 |
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