| 专利名称 | 一种磁流变抛光轮对非球面光学元件进行对准加工方法 | 申请号 | CN201610590660.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106826402A | 公开（授权）日 | 2017.06.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 张学军;薛栋林;李龙响;王孝坤;殷龙海 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种磁流变抛光轮对非球面光学元件进行对准加工方法 至一种磁流变抛光轮对非球面光学元件进行对准加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种磁流变抛光轮对非球面光学元件进行对准加工方法，该方法能够实现磁流变抛光轮(去除函数)与大口径非球面光学元件精确对准的定位方法。包括如下步骤：步骤a、去除函数原点标定，包括如下具体步骤：a1固定标准空心圆柱。a2将数控机床上的测头与所述标准空心圆柱对准。a3将抛光轮最低点位置与标准空心圆柱对准。步骤b非球面光学元件定位，包括如下具体步骤：b1将所述非球面光学元件设置于数控机床转台上并固定。b2当抛光轮以设定抛光间隙h对所述非球面光学元件进行加工时，若要对所述非球面光学元件上的设定点进行加工，计算抛光轮要移动的位置。 |
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