| 专利名称 | 一种激光溅射团簇离子源 | 申请号 | CN201710114780.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106803476A | 公开（授权）日 | 2017.06.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 张寒辉;邱秉林;汪蕾;周晓国;刘世林 | 主分类号 | H01J49/14(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J49/14(2006.01)I | 专利有效期 | 一种激光溅射团簇离子源 至一种激光溅射团簇离子源 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本申请公开了一种激光溅射团簇离子源，包括：离子源主体、脉冲阀、样品靶固定杆、进光螺钉、样品靶、喷嘴、密封片，还包括密封件，所述密封件位于样品靶固定杆和离子源主体之间，用于密封所述样品靶固定杆和所述离子源主体的样品靶孔之间的间隙，使得激光溅射团簇离子源的密封性更好，从而避免激光溅射产生的等离子体泄露，以及等离子体与载气的有效碰撞降低，进而提高团簇离子的产生效率，增强离子信号。 |
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