| 专利名称 | 一种基于啁啾光栅间隙检测与控制的超分辨光刻装置 | 申请号 | CN201611122015.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106547173A | 公开（授权）日 | 2017.03.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王彦钦;马晓亮;赵泽宇;高平;李雄 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于啁啾光栅间隙检测与控制的超分辨光刻装置 至一种基于啁啾光栅间隙检测与控制的超分辨光刻装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明是一种基于啁啾光栅间隙检测与控制的超分辨光刻装置，属于超分辨光刻装置的改进和创新技术领域。该装置的特点在于包括超精密环控系统、主动隔振平台、支撑框架、光源、间隙检测系统、对准模块、光刻镜头模块、承片台模块和控制系统。该装置通过啁啾光栅衍射成像技术，实现了纳米量级的在线间隙检测和控制；实现了间隙曝光，有效的保护了超分辨光刻器件；通过激光干涉仪、精密位移台、纳米位移台、对准模块和间隙检测模块进行反馈控制，实现了超精密套刻对准和步进光刻功能。 |
1、源头对接，价格透明
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