| 专利名称 | 一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统 | 申请号 | CN201510446458.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106707692A | 公开（授权）日 | 2017.05.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 段宣明;董贤子;郑美玲 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统 至一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统，包括：激光逐点扫描曝光单元，面投影曝光单元，移动台和计算控制单元，其中，计算控制单元将待曝光图形进行分解，以使得精度要求在预定阈值以下的图形由激光逐点扫描单元实现曝光，精度要求大于预定阈值的图形由面投影曝光单元实现曝光；在对该移动台上的样品进行激光逐点扫描曝光时，根据该精度要求在预定阈值以下的图形，该激光逐点扫描曝光单元出射的光相对该样品移动，从而实现对该样品的激光逐点扫描曝光；在对样品进行面投影曝光时，面投影曝光单元根据精度要求大于预定阈值的图形出射具有对应图形形状的光到样品上，以实现对样品的面投影曝光。 |
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