光束整形装置

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专利名称 光束整形装置 申请号 CN201720713128.1 专利类型 实用新型 公开(公告)号 CN207114901U 公开(授权)日 2018.03.16 申请(专利权)人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明(设计)人 杨立梅;黄伟;李丰;张巍巍 主分类号 G02B27/09(2006.01)I IPC主分类号 G02B27/09(2006.01)I;G02B27/30(2006.01)I 专利有效期 光束整形装置 至光束整形装置 法律状态 说明书摘要 本实用新型提供一种光束整形装置,包括光源、依次远离光源并设置于光源的出射光路上的第一透镜阵列、第二透镜阵列、光束整形器、光束聚焦器和第一光纤,光源包括多个阵列设置的半导体激光器,第一透镜阵列包括多个阵列设置的第一透镜,第一透镜与半导体激光器一一正对对应,第二透镜包括多个阵列设置的第二透镜,第二透镜与第一透镜一一正对对应;光源位于第一透镜阵列的前焦平面,第一透镜阵列的后焦平面与第二透镜阵列的前焦平面重合。第一透镜阵列对光源在快轴方向上的光进行准直,第二透镜阵列对光源在慢轴方向上的光进行准直,通过对光源在慢轴方向上的光进行准直,减少了由于慢轴方向上的发散在侧面引起的损耗,从而提高了整形效率。

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