专利名称 | 一种原花青素B2印迹整体柱的制备方法 | 申请号 | CN201610891099.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN106345436A | 公开(授权)日 | 2017.01.25 | 申请(专利权)人 | 中国科学院新疆理化技术研究所 | 发明(设计)人 | 刘照胜;贾曼;阿吉艾克拜尔·艾萨 | 主分类号 | B01J20/26(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J20/26(2006.01)I;B01J20/28(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;B01D15/22(2006.01)I | 专利有效期 | 一种原花青素B2印迹整体柱的制备方法 至一种原花青素B2印迹整体柱的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种原花青素B2印迹整体柱的制备方法,该方法以少量的原花青素B2为模板分子,同时加入聚苯乙烯、聚乙二醇这两种拥挤试剂,以四氢呋喃溶液做溶剂,以甲苯做致孔剂,再加入功能单体、交联剂或引发剂,然后超声溶解除去溶解氧并引发反应,最后得到具有选择性的原花青素B2分子印迹整体柱。本发明所述方法模板消耗量少,大大地降低了原花青素B2的印迹成本。在不锈钢柱管中成功合成了原花青素B2印迹整体柱,以及空白对照柱并进行色谱性能优化。实验结果表明,印迹因子最高可达5.13。该方法制备简单,且高分子聚合物耐用性好,为原花青素B2的分离纯化提供了一种节约成本的方法。 |
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