| 专利名称 | 暴露可控高活性晶面的锐钛型二氧化钛纳米材料及其制备方法和应用 | 申请号 | CN201610464727.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106082321A | 公开（授权）日 | 2016.11.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 发明（设计）人 | 张海元;刘宁;程岩;常赟;冯艳林 | 主分类号 | C01G23/053(2006.01)I | IPC主分类号 | C01G23/053(2006.01)I;A01N59/16(2006.01)I;A01P1/00(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I | 专利有效期 | 暴露可控高活性晶面的锐钛型二氧化钛纳米材料及其制备方法和应用 至暴露可控高活性晶面的锐钛型二氧化钛纳米材料及其制备方法和应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种暴露可控高活性晶面的锐钛型二氧化钛纳米材料及其制备方法和应用，属于纳米材料技术领域。一种暴露可控高活性晶面的锐钛型二氧化钛纳米材料，该材料的{001}晶面和{101}晶面比例为：1％、10％、35％或50％，尺寸均为50?70nm。本发明提供的暴露可控高活性晶面的锐钛型二氧化钛纳米材料的制备方法以四氯化钛作为钛源，水为反应溶剂，氟化铵为形貌控制剂，通过溶剂热法制备纳米二氧化钛。通过调节反应原料的摩尔比例、反应温度和时间，制备出{001}晶面和{101}晶面比例可控的锐钛型二氧化钛纳米材料。用本发明提供的晶面比例和尺寸的二氧化钛纳米材料可以用于抑制细菌生长，并具有高效的可见光催化抑菌性能。 |
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