| 专利名称 | 一种用于CVD固态源的挥发装置 | 申请号 | CN201720434437.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206935318U | 公开（授权）日 | 2018.01.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;肖明;郭光灿 | 主分类号 | B01J3/03(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J3/03(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于CVD固态源的挥发装置 至一种用于CVD固态源的挥发装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了种用于CVD固态源的挥发装置，包括上盖组件与及不锈钢釜体(1)构成的密闭反应釜；所述的上盖组件包括上盖法兰(2)，上盖法兰(2)上设有与反应釜内连通的进气管(3)与出气管(4)；进气管(3)伸入反应釜内部；所述的上盖法兰(2)上还设有固态源盛放装置，所述的固态源盛放装置包括不锈钢直棒(5)与固态源存放筒(6)；不锈钢直棒(5)外径不小于固态源存放筒(6)外径，通过螺纹连接；固态源存放筒(6)一端伸入反应釜内部；固态源存放筒(6)中空侧壁设有多个通气孔道(7)；所述的上盖法兰(2)上还设有温控装置的热电阻(8)，热电阻(8)测温端伸入反应釜内部；所述的不锈钢釜体(1)外侧设有温控装置的加热环。该装置可以实现固态源的方便填装，源温度的平稳控制，以及良好的密封性能。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障