| 专利名称 | 高密度光栅 | 申请号 | CN201720444201.X | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206907499U | 公开（授权）日 | 2018.01.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 李文超;陈鸣闽;李志成;李凌;辜嘉 | 主分类号 | G21K1/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G21K1/06(2006.01)I | 专利有效期 | 高密度光栅 至高密度光栅 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型适用于光学元件领域，公开了高密度光栅，其包括n块叠压固定在一起的低密度光栅，每块低密度光栅的光栅条宽度都为a、光栅周期距离都为A，n为大于或等于2的自然数，且n*a<A；该高密度光栅的光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n。本实用新型提供的高密度光栅，密度高，精度高，结构简单，且易于加工制作，加工成本低，其可先采用传统技术制作出光栅条宽度为a、光栅周期距离为A的低密度光栅，然后再将n块低密度光栅叠压固定在一起制成光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n的高密度光栅，实现了高密度光栅的制作，利于X射线相衬成像实验的开展。 |
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