| 专利名称 | 一种同步辐射用光学元件积碳清洗装置 | 申请号 | CN201720619170.7 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206854263U | 公开（授权）日 | 2018.01.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 发明（设计）人 | 张翼飞;罗红心;李中亮;王劼 | 主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B7/00(2006.01)I;B08B11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种同步辐射用光学元件积碳清洗装置 至一种同步辐射用光学元件积碳清洗装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供一种同步辐射用光学元件积碳清洗装置，包括真空腔体；与所述真空腔体连通的射频发生器、真空机组、真空计和残余气体分析装置，该射频发生器包括电感型射频电源和等离子发生器；与所述射频发生器连通的液氮净化装置；以及通过质量流量计与所述液氮净化装置连通的气体容器。本装置结构简单，清洗效率高，对光学元件不会产生任何损伤，可以满足同步辐射装置中光学元件积碳在线清洗问题，还可以应用于其它类型的真空积碳清洗。 |
1、源头对接，价格透明
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