| 专利名称 | 等离子体化学刻蚀设备中的可更换喷嘴ICP发生装置 | 申请号 | CN201610623985.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106252191A | 公开（授权）日 | 2016.12.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王旭;薛栋林;张学军;刘泉;郑立功 | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 专利有效期 | 等离子体化学刻蚀设备中的可更换喷嘴ICP发生装置 至等离子体化学刻蚀设备中的可更换喷嘴ICP发生装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种等离子体化学刻蚀设备中的可更换喷嘴ICP发生装置，属于光学曲面镜加工精密加工装置技术领域。该ICP发生装置包括喷嘴、等离子体炬管、套设于等离子体炬管外的感应线圈、高压特斯拉点火线圈、射频电源和匹配器，射频电源和匹配器为感应线圈供电，高压特斯拉点火线圈由外部电源进行供电；喷嘴与ICP发生装置中等离子体矩管的前端为可拆卸的固定连接，通过更换不同内径的喷嘴来实现对去除函数的尺寸进行调节。采用本发明的ICP发生装置对光学元件加工能获得理想尺寸的去除函数，实现全频段面形误差收敛。 |
1、源头对接，价格透明
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